那当然是多选择几条路线来走。

至于说研发资金什么的？

可事实上，在2010年的才搞第一台euv原型机！

euv光刻机的研发是米国在上世纪末牵搞的，为的跨越193nm。

随着所以，euv光刻机研发时间才会展缓慢。

陈伟还就不相信了，十年时间，还搞不定。

这里必须得要说一个问题，asml研发euv光刻机，只是企业在技术路线上面的一个选择罢了。

就看时间长短罢了。

只要想，即能成！

所以对于企业来讲，最为稳妥的办法是什么？

缺什么技术，那就研发什么技术。

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几年不成功，那就十年时间好了。

当时，自然给了好些技术路线方桉，而euv属于其一，同时英特尔也决选择了euv这个技术路线。

到现在什么时候开始真正向下游客供货，都还不知。

直接就金钱、荣誉、地位等多方面行刺激，然后就是大家都打了血似的，从研发到生产，再到办公室，那风气一下就变了。

就好像圆珠笔芯用的钢珠，不少公知带节奏，以国内生产不了笔芯钢珠所用的钢材来直接说整个钢铁行业技术不行。

都于中低端，可依旧能够诞生端制造业企业。

最开始的时候，euv光刻机的研发，asml并没有将所有资源全给押上，还在保持其他技术路线的研发。

砸钱就是了。

两家公司是和国家行合作成立的，恒通集团在两家公司有占。

理上面由恒通集团来负责，技术人员调了不少研究所的人，甚至直接吞并掉好几家研究所。

陈伟和贺明军也没有在euv光刻机研发上面多说，现在euv光刻机的研发才是刚刚开始，未来还有很长的路要走。

而是整个市场本就用不了那么多材料，生产了一炉之后，就直接够全球用上一两年。

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因为华国有足够的人，在大人基数下，有太多的人才。

当时在半导行业，芯片制程工艺在193纳米这卡住了。

贺明军犹豫了一下，euv光刻机是未来光刻机发展的方向，这贺明军自然清楚。

看起来研发时间很长对吧！

是不是会觉得，euv光刻机的研发特别的艰难，人家了十一年的时间才给搞来，而且还是原型机。

没有人知，什么技术路线才是能够最终走向成功。

恒通集团负责公司理，那么自然就将恒通系的理系给引了来。

“听说，最近段时间，在后光刻机市场上，申微表现得不错，一路横扫之势？”

贺明军：“在镜和光源上面，是两个大的拦路虎，需要不少的时间来行突破。”

陈伟也知这些问题，现在也是有两家专门的公司在研发这个了。

行公司化运营之后，自然就不能够像是以前那样，不考虑市场化。

asml在1999年的时候，开始euv光刻机的研发工作，计划在2004年的时候推产品。

现在要的事情就两个：保持研发投和耐心。

真的不能造？

既然知了这个，对于陈伟对euv光刻机研发成功有信心，就不足为奇了。

可这些都是能够解决的。

在很多技术上面，现在华国都欠缺，甚至连人才都欠缺。

贺明军笑：“主要还是我们和国际同行相比起，在技术上面，我们并不差，可我们的价格却是最低的。”