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第697章 直奔浸run式光刻(2/2)

这……是不是走得太快了一

而国内,则压没有那个力去搞。

所以,郑振川也疑惑地望向苏远山。

三年!

现在苏远山说的不是直接搞光源,而是直接搞光刻机……

直接就与林,赵团队合作,直接过单纯的arf光刻机……或者说,直接协同研发跨越193nm的光刻机!”

“不,林,赵团队没有解决光源,但他们有解决镜的方案。可以实现超越193nm的效果。”苏远山看着曲慧和沈浩然,解释:“如果郑叔这边和那边直接合启动该方案的光刻机的研发,那么……或许鸿芯就可能是第一家率先打破193nm的光刻机企业。”

但苏远山现在说到直接就行光刻机的研究……

面对众人疑惑的神,苏远山轻轻地气。

当然,郑振川不向曲慧他们这样一惊一乍的,作为鸿芯的负责人,他自然知林本他们的方案,并且自己这边也给了合作计划。

想到2003年,自己就能拿到可以卖20年都不会落伍的duv,苏远山就觉到有起来。

林本是工程师,而且还是那就班的、极为老牌和严谨的工程师。他既然能提式方案,那脑海中就必定有一个大的解决方案。

而苏远山上次从hk回来时就路过了沪市,专门去看了林本罗列的一个个要解决的技术问题和难照苏远山对工程和光学的浅薄认识来看,这些技术,都不是超越现代工程的技术。

他话音落下,这边曲慧和沈浩然上便是一惊!

那么这就意味着,浸式方案,也会如同前世一样,或许两年就能搞来——把时间再算抛一,那也就是三年!

好家伙,意思就是那边的团队搞定了光源?

之所以让郑振川直接就上式光刻机,自然还是因为他对林本有着绝对的信心。

如果郑振川和林本的团队一同协助,一开始就直奔浸式duv,那么或许最多三到五年……鸿芯就能推世界上第一台浸式duv光刻机。

但人家意识得造,就意味着布局得早。尼康早就拉了一帮人在搞157nm的f2准分光源不说,老那边更是,国家能源局亲自下场,组建了一支豪华的阵容直接瞄准了最低可到10nm波长的极紫外光源euv。

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“到时候,别说asml之,就算尼康佳能,他们也只能跪地求饶。”

“小山,你的意思是林博士他们解决了下一代光源了?”曲慧由于长年累月呆在鸿芯这边,早已经对光刻机技术和发展了如指掌,知目前国内虽然由赵凯东那边实现了arf光源的突破,但arf在国外可是好几年前就已经突破了……而且人家早就意识到了193nm的arf激光将会是光刻机发展的一个重要节——这也是国产光刻机追上世界的重要机会。

那该是多么伟大的一次超越啊……

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