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这个消息让大家非常振奋,但
什么时候能用上这款光刻机,暂时还没有定论。
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系统可以迁就芯片
行修改,但芯片
来之后,就无法再
行修改了。
“徐教授,能再帮我们详细的解释一下吗?”
关于芯片的制程工艺问题,大家也在
行着积极的讨论。
“我不这么认为。计算机芯片对制程工艺的要求的确没有手机芯片
,不过其实相差已经不多了。现有的
级计算机芯片,制程工艺基本已经
到了5-6nm。如果我们还采用落后的制程工艺,在芯片的
能上肯定无法与因特尔、amd、
果等公司相比。本来我们在计算机领域就是后来者,系统和生态都是全新的。如果芯片还远远落后于他们,
本就没有任何竞争力。”
接下来的工作,就是利用eda
件,
行芯片的设计了。
因为芯片与系统适
的问题,一定得是在完成芯片的设计后,才可以
成熟的系统的。
“在预测
能的
分,后端设计的
程很长,所以我们
前能够看见的
分,其实距离后端是非常远的。依靠ai
大的计算能力,可以让我们很快看到后端的表现,大大提升模拟的准确率及优化的表现。即使只能提升百分之五或是百分之十,对于全局来说,也是非常
大的提升。”
“据内
最新的消息,我们的euv光刻机,已经基本完成了全
制备工作,只剩最后的测试阶段的。不
意外的话,我们
上就可以
自己的
度芯片了。”
芯片和系统之间,
现各
bug是非常正常的现象。
“我的建议是,还是先设计10nm或14nm制程工艺的计算机芯片。这样的制程工艺,还不需要使用euv光刻机,我们的技术更加成熟。而且,相对于手机芯片,计算机芯片对制程工艺的要求没有那么
,刚刚接
这个行业,我们还是需要从10nm或14nm制程工艺
手更好,等技术成熟后,再采用更先
的制程工艺。”
徐佑用非常通俗的语言,向大家讲述了其中的
原理,很快便让大家理解得差不多了。
见大家对
的原理有些好奇,徐佑便耐心的解释了起来。
“至于工
自动化的问题,就更好理解了。如果仅仅是运行一次数据,那人工和ai在速度上不会有什么区别。如果是连续跑几十、几百次,那速度的区别可就大了。在这上面,我们ai不仅速度更快,还会给
推荐的参数,以及合理范围内的期待结果。”
听到大家的这些议论,徐佑轻轻的笑了笑。
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“其实现在ai能够帮助我们解决这些问题,很大程度上依然来源于ai
大的计算能力。在eda领域上,ai主要有两个应用,一个是预测
能,一个是帮助工
更加自动化的使用。这里面,都离不开ai的特殊算法,与
大的计算能力。”